近期，湖北光谷实验室、华中科技大学集成电路学院及其光电子器件与三维集成团队携手广纳珈源（广州）科技有限公司，共同实现了高性能量子点光刻胶（QD-PR）的重要突破。该光刻胶在蓝光转换效率上，绿色波段取得了44.6%的佳绩，红色波段更是高达45.0%，且光刻精度跃升至1微米，实现对现有技术的突破。

与此同时，Micro-LED 显示技术凭借其卓越的性能在AR、VR领域备受瞩目。该技术拥有超快的响应速度、超高的像素密度，并在高分辨率、高亮度、高对比度和宽色域等方面展现出显著优势。然而，尽管其前景广阔，但在全彩化显示技术的实现上仍面临巨大挑战。特别是RGB三色micro-LED全彩技术，面临着巨量转移难题、成本控制压力、驱动架构复杂性以及不同颜色光衰差异等问题。此外，由于Micro LED芯片尺寸微小，如何在有限的空间内有效排列三色芯片以实现全彩显示，尤其是解决红色LED发光效率急剧下降的问题，仍是当前亟待攻克的技术难题。

当前蓝光LED搭配色彩转换材料来达成全彩化是比较可行的方式之一，也就是用单色蓝光 micro-LED 激发绿色和红色荧光材料能够避免上述问题，具有发展应用潜能。胶体量子点就是理想的荧光材料，只要改变尺寸和化学成分，就能非常精确地调节其光吸收和发射特性，同时具有发射光谱半峰宽小、 发光效率高、性能稳定等优点。

想要实现量子点色转换层与蓝光 micro-LED 阵列配合，红光和绿光量子点与相应的蓝光像素一一对应，还需要对量子点进行像素化集成，主要有两种方案：喷墨打印和光刻，相对于喷墨打印，光刻的优势在于精度比较高，提供了更多可能性，同时获得的量子点像素更小，对于高 PPI 的 AR、VR 应用就更加适用。但是目前在发光效率、像素精度、蓝光转换效率、稳定性等方面还存在问题。

高性能的量子点光刻胶的研发成功，让研究团队实现了量子点像素的高精度，同时稳定性也比较优异，经过在空气中 75°C加热 120 小时的信赖性测试后仍能保留原始发光性能的 92.5%（红色）和 93.4%（绿色），通过红绿量子点套刻，配合蓝色面光源，研究团队获得了高精度的基于量子点色转换像素的静态图案，充分展示了量子点光刻胶在显示面应用潜力，针对于此，翰博高新积极储备该方向技术力量，随着技术的不断成熟和应用领域的不断拓展，翰博高新对量子点光刻胶的未来充满期待。相信在未来几年内，该技术将应用于各类显示设备、背光产品以及各类穿戴电子产品等领域，为人们带来更加丰富多彩的视觉体验和更加智能便捷的生活方式。

信息来源：中国光谷|光谷实验室